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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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* C. a. scindicum：分布于巴基斯坦南部。

* C. a. griseigulare：分布于喜马拉雅山南麓，不丹至阿萨姆邦南部和缅甸东北部。

* C. a. altirostre：分布于缅甸中南部，濒危亚种。

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汪硕画（6月7日（隆武二年四月庚子）），字耘石，徽州歙县人，明朝、南明政治人物。

汪硕画是定番总兵汪硕德的弟弟，随他在宣府当兵，官至参将；不久硕画在袁继咸麾下累积功勋，授都督同知总兵。袁继咸死后，部下多投降清朝，只有他不屈服。南京失守，汪硕画与兄长在塘栖起兵堂栖，战败后和数千人进入广信，跟从周定礽守城，加太子少保。隆武帝说：「逃兵肆虐，没有官员安抚，而地方奸徒勾结清兵，遗害很大。」因此命行人到各处安抚集聚，不久汪硕画在贵溪兵败，被清军捉获。金声桓与旧友盟友多方诱降，他闭上眼睛不说话，很快在广储门外被杀。

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