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藤原师通（ふじわら の もろみち，7月18日），日本平安时代公卿。藤原北家出身，藤原师实长子。官至从一位关白内大臣，世称后二条殿。。
1094年，代父师实为关白。师通为人，知识广博而能用人。其时白河天皇已让位给儿子堀河天皇，却仍以上皇身份处理政务（院政），师通对此采取批判的态度。然而1099年师通去世，使得院政失去制衡的力量，而得到更进一步的发展。
* 妻：藤原信子 - 藤原信长养女、实父为藤原経辅
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CMP技术早期主要应用于光学镜片的抛光和晶圆的抛光。
20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。
化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。
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大凌河又称鄂木伦河，中华人民共和国辽宁省西部主要河流，古称白狼水，辽朝改名为灵河，金朝又改为凌河，后为与小凌河相区分，称大凌河。
大凌河上游分为南北两支，北源发源于凌源市，南源发源于建昌县，在喀喇沁左翼蒙古族自治县境内合流，流向东北。至北票市境内折往东南，下游受医巫闾山阻挡，折而向南，在凌海市境内注入辽东湾。该河全长375公里，年均径流量16.67亿立方米。
建造年间不详。1931年九一八事变后，日军驻守。1932年1月24日，东北抗日义勇军二十六路军突袭，拆毁铁路轨，在中共史料称「奇袭大凌河车站」。
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