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凯西·穆里根（Casey B. Mulligan）是美国经济学家、芝加哥大学经济学教授，2018年9月至2019年8月期间担任白宫经济顾问委员会首席经济学家。
穆里根的主要研究领域是税收、监管、社会保险、政府行为等“公共经济学”。作为典型的芝加哥学派经济学家，他主张「去监管」、缩减被认为会打击就业积极性的社会福利项目，也曾是反对“奥巴马医保”的权威之一。在经济理念上与唐纳·川普颇为投契的穆里根于2018年正式投身特朗普政府，任白宫经济顾问委员会首席经济学家，直到2019年中。
2020年，穆里根将他在白宫的工作经历写成了一本回忆录《你被雇用了：一位平民主义总统未被讲述的成功与失败》（You’reHired:UntoldSuccessesandFailuresofaPopulistPresident）。穆里根在书中描绘特朗普治下的白宫为有序、高效、目标坚定、成果丰硕，而特朗普本人则是一个“为人民代言”的“实验者”。穆里根也在书中驳斥了许多外界对于白宫的批评，还通过第一视角为特朗普本人所遭受的质疑辩护。
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格奥尔基·基里洛维奇·科兹洛夫，又译高兹洛夫，苏联军事将领，陆军中将。
1918年加入苏联红军，曾参与俄国内战西线战役，1921年参与镇压喀琅施塔得起义，第二次世界大战期间参加苏德战争，1945年担任第39集团军副司令，占领中国城市大连，担任苏联驻军司令员。1948年后，任滨海、白海、北部军区参谋长。1952年调至军事后勤与运输学院任教，1953年3月任副院长。1965年退役。
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CMP技术早期主要应用于光学镜片的抛光和晶圆的抛光。
20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。
化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。
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