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在广义上，低影响开发包含了英国的可持续城市排水系统（Sustainable urban drainage systems, SUDS）（在此，低影响开发的含义较美国及加拿大有所不同）、澳大利亚的水敏感性城市设计（Water-sensitive urban design, SUDS）、用于美国西雅图及华盛顿的自然排水系统（Nature drainage systems, NDS）等。
自20世纪80年代中期年于美国马里兰州乔治王子县被提出以来，低影响开发逐步成为了美国传统雨水管理系统最佳实践（Best management practices, BMP）的替代品并被纳于美国基建计划当中。最初，LID的提出是为了解决乔治王子县经济增长与传统雨水管理在因当地环境而受限的矛盾。随后政府发现传统雨水管理措施在经济效益上的矛盾日益突出，在部分地区，甚至不能保证当地水质达标。于是，于1998年成型的一个非盈利水资源检测组织——低影响开发中心就有关低影响开发的理念、发展、及制定可持续发展计划、方案设计（诸如绿色基础设施和绿色高速公路）等方面开始与政府合作。
在美国国家环境保护局的支持下，低影响开发成为了为实现美国清洁水法案的又一项新举措 。因而，美国许多地区、州市、联邦政府有关部门开始调整基建政策以满足低影响开发的条件，并将其用于公共基础设施的建设当中。低影响开发技术也同样在美国精明增长（Smart Growth）以及土地利用规划上起到了重要的作用。
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化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。
化学机械平坦化是在机械抛光的基础上根据所要抛光的表面加入相应的化学添加剂从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。
氧化硅抛光主要被应用于平坦化金属层间淀积的层间介质（ILD），其基本机理是Cook理论。磨料中的水和氧化硅发生表面水合作用，从而使氧化硅的硬度、机械强度等有效降低，在机械力的作用下将氧化硅去除。氧化硅的去除速率主要由Preston方程表达。
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* 斉藤政喜・内沢旬子『东方见便录 「もの出す人々」から见たアジア考现学』文艺春秋＜文春文库＞、2001年, 978-4167157173
* 江夏弘『お风吕考现学 日本人はいかにお汤となごんできたか』TOTO出版、1997年, ISBN 978-4887061521
* 今和次郎『考现学入门』筑摩书房＜ちくま文库＞、1987.1, ISBN 978-4480021151
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